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衍射極限與超分辨率的物理直觀:從光學到電子束的跨越

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在微納加工領域,電子束光刻(EBL) 技術也利用了電子束的短波長優(yōu)勢。它使用聚焦......

濕粘顆粒堵孔難:翻轉流篩技術實現(xiàn)高效分離

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在當前推動礦產(chǎn)資源清潔高效利用的國家政策背景下,振動篩分作為煤炭等關鍵能源資源加......

從物理模板到數(shù)字光場:無掩模光刻技術如何重構微納加工的研發(fā)范式

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光刻無疑是定義器件幾何形態(tài)的基石。對于那些深耕于電子顯微鏡及原位測量系統(tǒng)領域、擁......

澤攸科技壓電驅動技術突破:雙模式電機實現(xiàn)從毫米級到納米級的無縫精密運動

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壓電超聲電機(USM)利用壓電材料的逆壓電效應,通過高頻結構振動共振模式實現(xiàn)驅動......

澤攸科技電子束光刻機助力實現(xiàn)30nm超小間隙納米十字天線

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澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(EBL)是一款高性能、高精度的光刻設備,專為......

國內(nèi)EBL鄰近效應修正技術面臨的挑戰(zhàn)

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EBL憑借電子波長短,不受衍射限制等優(yōu)勢,對比光學光刻具有更高的理論極限分辨率,......

澤攸科技DMD無掩膜光刻機賦能仿視網(wǎng)膜雙模光電探測器的制備

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隨著機器視覺技術在無人機、智能車輛和移動機器人等領域的快速發(fā)展,實時成像系統(tǒng)對硬......

澤攸科技DMD無掩膜光刻機助力高性能二維材料器件的研發(fā)

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近年來,二維(2D)層狀晶體及其異質(zhì)結構由于其電學、光學和機械性能而受到了廣泛關......

澤攸科技無掩膜光刻機在PtTe2/WS2/金字塔狀Si異質(zhì)結構制備中的應用

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在當今的光電探測器領域,二維(2D)材料因其獨特的物理和化學性質(zhì)而備受關注。...