掃描電鏡（SEM）的標定（Calibration）主要用于確保測量的準確性，包括尺寸測量、放大倍率、電子束偏轉(zhuǎn)等。標定通常涉及以下幾個關鍵步驟：

1. 放大倍率和尺寸標定

目的：確保 SEM 顯示的尺寸和真實物理尺寸一致。

方法：

使用標準樣品（Calibration Standard），如硅光柵、金剛石網(wǎng)格、納米刻線標樣等。

選擇已知尺寸的參考結構（如 100 nm 間距的光柵）。

在不同放大倍率下拍攝圖像，并使用圖像測量工具對比實際尺寸與標定尺寸。

調(diào)整 SEM 軟件中的校準因子，使測量值與真實尺寸匹配。

2. 電子束偏轉(zhuǎn)和掃描畸變校正

目的：減少束斑漂移、形變，提高掃描精度。

方法：

觀察規(guī)則對稱的標準樣品，如方形網(wǎng)格或周期性結構，檢查是否有失真。

調(diào)整 SEM 的掃描系統(tǒng)，使圖像中的幾何形狀準確無誤。

可能需要調(diào)整電子束的掃描校正參數(shù)。

3. 束流和工作距離標定

目的：優(yōu)化束流和焦距，提高分辨率和深度對比。

方法：

選擇高分辨率標準樣品，如金顆?；蛱技{米管。

逐步調(diào)整 束流（Beam Current），觀察對比度與清晰度。

調(diào)整 工作距離（Working Distance），確保成像效果。

4. 電子束聚焦和像散校正

目的：消除像散，提高成像清晰度。

方法：

逐步調(diào)整 消像散（Stigmator），優(yōu)化電子束形狀。

觀察高放大倍率下的金顆粒樣品，直到邊緣清晰、無拖尾。

5. 能譜（EDS）標定（如適用）

目的：確保元素分析的能量精度。

方法：

使用已知成分的標準樣品，如純銅（Cu）、硅（Si）等進行 EDS 采集。

對比測得的峰位與已知元素的 X 射線能量，并調(diào)整光譜校準。

6. 透射（STEM）模式標定（如適用）

目的：用于納米尺度樣品的透射成像校準。

方法：

使用納米尺度標準樣品（如金屬薄膜），確保透射模式下放大倍率和尺寸精準。

7. 記錄標定數(shù)據(jù)并定期維護

記錄所有校準參數(shù)，定期復查并調(diào)整。

避免環(huán)境變化（溫度、振動、磁場等）影響 SEM 的穩(wěn)定性。

以上就是澤攸科技小編分享的如何進行掃描電鏡的標定的介紹。更多掃描電鏡產(chǎn)品及價格請咨詢