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掃描電鏡拍圖時(shí)是否需要調(diào)整樣品高度?

日期:2025-08-01

掃描電鏡(SEM)拍圖時(shí)通常需要調(diào)整樣品的高度,這是成像質(zhì)量和操作效率的重要因素。下面是詳細(xì)解釋:

一、為什么要調(diào)整樣品高度?

樣品高度會(huì)影響以下幾個(gè)關(guān)鍵參數(shù):

1. 工作距離(Working Distance, WD)

工作距離指的是電子槍下發(fā)射出的電子束到樣品表面的垂直距離。

不同放大倍率和探測(cè)器(如二次電子、背散射電子、EDX)對(duì)工作距離有不同要求。

通過(guò)調(diào)整樣品高度,可以間接調(diào)整工作距離,以適應(yīng)不同成像需求。

2. 焦點(diǎn)位置(Focus)

SEM 是通過(guò)聚焦電子束在樣品表面形成圖像;

若樣品高度太高或太低,焦點(diǎn)會(huì)偏離,導(dǎo)致圖像模糊;

調(diào)整樣品高度可使感興趣區(qū)域進(jìn)入焦平面,便于精確對(duì)焦。

3. 探測(cè)器位置與接收角度

背散射電子探測(cè)器、X 射線探測(cè)器等通常固定在腔室上部或側(cè)部;

調(diào)整樣品高度可以使信號(hào)更好地被接收,提高圖像或能譜質(zhì)量。

二、什么情況下需要調(diào)整樣品高度?

更換樣品后:不同樣品厚度或固定方式不同,起始高度不一致;

觀察樣品某一特定區(qū)域(如表面凹陷或凸起):需要上下調(diào)節(jié)找準(zhǔn)合適對(duì)焦位置;

改變放大倍率或探測(cè)器時(shí):高倍率通常需要較短的工作距離,因此要升高樣品;

需要拍攝連續(xù)不同區(qū)域:可通過(guò) Z 向調(diào)整保持視野清晰;

多樣品排列:有時(shí)平臺(tái)上放多個(gè)樣品,它們高度不同,需逐一調(diào)節(jié)觀察。

三、如何安全調(diào)整樣品高度?

低倍率下觀察樣品高度變化,避免撞擊物鏡或探測(cè)器;

使用“Z軸”移動(dòng)功能,由遠(yuǎn)及近緩慢接近焦距;

注意腔內(nèi)結(jié)構(gòu)(如二次電子探頭、EDX 探頭)的位置,避免樣品撞上;

部分 SEM 具有限高保護(hù),仍建議手動(dòng)謹(jǐn)慎操作;

調(diào)整后需重新對(duì)焦并調(diào)節(jié)工作距離,以獲得清晰圖像。


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作者:澤攸科技